激光器 Q 释放是调 Q 技术中的关键环节，是指在调 Q 激光器中，通过特定机制使激光谐振腔内积累的能量在极短时间内快速释放，形成高能量、窄脉冲激光输出的过程。以下从相关概念及实现方式等方面进行具体解释：
Q 值的含义：Q 值即品质因数，是评定激光器中光学谐振腔质量好坏的指标，定义为在激光谐振腔内，储存的总能量与腔内单位时间损耗的能量之比。Q 值与谐振腔的损耗呈负相关关系，损耗越低，Q 值越高。
Q 释放的原理及过程：
能量积累阶段：在激光器工作初期，通过调 Q 装置使谐振腔处于高损耗、低 Q 值状态。此时，激光介质在泵浦源的作用下被激发，上能级不断积累粒子，形成粒子数反转分布，但由于高损耗，无法形成激光振荡，能量在激光介质中持续积累。
Q 释放阶段：当粒子数反转达到最大值时，调 Q 装置迅速改变腔内的损耗，使谐振腔的损耗突然降低，Q 值急剧增大。此时，激光阈值也随之突然减小，积累的大量能量在极短时间内以受激辐射的形式释放出来，形成高能量、窄脉冲的激光输出。
Q 释放的实现方式：
电光调 Q：利用晶体的电光效应，在晶体上加一阶跃式电压来调节腔内光子的反射损耗。当晶体上有特定电压时，光不能在腔内来回传播形成振荡，相当于腔内光子损耗很大，Q 值很低；当突然退去晶体上的电压，晶体恢复原来状态，光在腔内形成振荡，实现 Q 释放。
声光调 Q：当驱动源以特定载波频率驱动换能器时，换能器产生超声波传入声光介质，由于声光效应，介质内形成折射率变化，使 1 级衍射波受到调制而成为携带信息的调制波，从而控制光的传播，实现腔内损耗变化和 Q 释放。
染料调 Q：利用可饱和吸收染料作为 Q 开关，这种染料是一种非线性吸收物质，放在谐振腔内，其吸收率是光强的函数，初时光吸收率很大，光强增大后吸收率减少直至饱和。利用其对光的可饱和吸收特性来改变谐振腔内的吸收损耗，从而实现 Q 释放。